半導體 · UPW
製程用水的微生物與生物膜風險
痛點:超純水系統中,微量微生物或管路生物膜可能影響良率;化學投藥可能引入新污染與殘留管理成本。
作法:以 265nm UVC 對關鍵水路做物理殺菌/抑膜,並以感測與運轉紀錄支持製程稽核。
可驗證重點:無汞 LED、劑量可調、數據可追溯;實際規格依流量與 UVT 評估。
Use cases
以 265nm UVC LED 冷殺菌與可追蹤監控,服務高價值循環水路。每段包含痛點、作法與可驗證重點,方便評估與引用。
半導體 · UPW
痛點:超純水系統中,微量微生物或管路生物膜可能影響良率;化學投藥可能引入新污染與殘留管理成本。
作法:以 265nm UVC 對關鍵水路做物理殺菌/抑膜,並以感測與運轉紀錄支持製程稽核。
可驗證重點:無汞 LED、劑量可調、數據可追溯;實際規格依流量與 UVT 評估。
AI 資料中心 · 液冷
痛點:迴路形成 biofilm 後,散熱效率下降、阻塞風險上升,影響可用算力與維運成本。
作法:在冷卻液/循環水路徑導入 265nm 長效抑膜,減少大量化學藥劑對管路與冷板的傷害。
可驗證重點:閉環監測流量與 UV 狀態;告警與趨勢可供 DCIM 對接。
水產 · RAS
痛點:高密度 RAS 最怕病原擴散;依賴投藥則有殘留與法規疑慮。
作法:以冷殺菌降低對熱處理與化學藥劑的依賴,並依負荷調整劑量。
可驗證重點:非加熱運轉、可記錄處理歷程。
製藥 · 冷殺菌
痛點:若仍高度依賴臭氧或熱殺菌子系統,設備鏈長、能耗與驗證負擔高。
作法:評估以 265nm 冷殺菌模組整併部分殺菌功能,並保留可稽核數據軌跡。
可驗證重點:藥典/GMP 場景須個別驗證;本頁僅說明技術方向。
設施 · 冷卻水塔
痛點:冷卻水塔是退伍軍人菌等高風險熱點,事件成本包含健康、停業與商譽。
作法:以 265nm 作為循環水微生物控制選項,並以 IoT 紀錄支持維運佐證。
可驗證重點:需配合既有水質管理整體設計,而非單一設備取代全部措施。
請提供設計流量、管徑、水質目標與現有系統圖。也可先閱讀 常見問題 FAQ。